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無(wú)錫尚積半導(dǎo)體科技股份有限公司年新增研發(fā)20臺(tái)半導(dǎo)體薄膜沉積設(shè)備項(xiàng)目 |
| 發(fā)布者：無(wú)錫市科泓環(huán)境工程技術(shù)有限責(zé)任公司 發(fā)布時(shí)間：3/13/2025 10:24:49 AM 點(diǎn)擊次數(shù)：820 關(guān)閉 |
項(xiàng)目名稱:年新增研發(fā)20臺(tái)半導(dǎo)體薄膜沉積設(shè)備項(xiàng)目 建設(shè)單位:無(wú)錫尚積半導(dǎo)體科技股份有限公司 地址:江蘇省無(wú)錫市新吳區(qū)長(zhǎng)江南路35-312號(hào)、35-321號(hào) 環(huán)境影響評(píng)價(jià)機(jī)構(gòu):無(wú)錫市科泓環(huán)境工程技術(shù)有限責(zé)任公司 聯(lián)系電話:0510-68566079 郵箱:1xhb668@163.com 公眾提出意見(jiàn)的主要方式:電話、郵件 公示日期為2025年3月13日-2025年3月19日 無(wú)錫尚積半導(dǎo)體科技股份有限公司年新增研發(fā)20臺(tái)半導(dǎo)體薄膜沉積設(shè)備項(xiàng)目
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